四月二十六日。
硅谷。
gca总部。
“公司拿出200万美元奖励gca3500b项目部。”
周五下午,孙健接到余建国从美国打过来的报喜电话,第二天就乘飞机来到硅谷。
啪啪……
艾德里安、布罗迪和汤普森等公司高层露出了久违的笑容,扬眉吐气。
gca光刻机半导体研究院将研制成功的适合8英寸晶圆和350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统,安装在一台gca3500a光刻机上,制程工艺突破350nm,通过多次测试,最高达到320nm,命名为gca3500b,制程工艺超过nikon3500b光刻机,还提升47%的生产效率,创了新的世界纪录!
去年底研制成功gca3500a是一个巨大的突破,与nikon3500b光刻机的制程工艺看起来相同,但由于安装有适合8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统,gca3500a的制程工艺和生产效率明显超过nikon3500光�
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